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| 品牌 | 泊勛 | 應用領域 | 綜合 |
|---|
? 工作原理
1. 激光聚焦在樣品表面，光譜儀采集樣品的發射光譜。
2. 樣品經 X、Y 軸掃描，獲取每個坐標點的光致發光光譜；Z 軸調節物鏡，保持樣品聚焦。
3. 采集數百萬條光譜后，分析軟件提取峰值能量與強度，生成高分辨率、高對比度物理圖像。
? 核心功能覆蓋
該顯微光譜系統采用模塊化設計，使研究人員能夠快速切換波長范圍與實驗配置，更換波長組件操作簡易，五分鐘內即可完成
除光致發光(PL)分析外，該系統還可進行顯微拉曼光譜，顯微反射光譜和顯微光電流的采集與分析。
核心優勢
? 模塊化設計與多功能集成
模塊化設計 | 多功能集成 |
Mini Pro 顯微光譜系統采用通用型光學設計和模塊化設計，研究人員可通過更換波長組件模塊，快速切換波長范圍和實驗配置。 | 顯微光致發光（PL）分析 |
顯微拉曼（Raman）光譜分析 | |
顯微光電流分析 | |
X、Y、Z 三軸掃描 | |
電致發光分析 | |
TRPL熒光壽命分析 | |
低溫測量分析 |
? 自動對焦
自動對焦 | 關鍵參數 |
自研技術，適配樣品粗糙 / 傾斜 / 彎曲表面，激光光斑始終聚焦 | 寬光譜：200–1700 nm |
空間分辨率：亞微米級（0.35 μm） | |
光譜采集量：數百萬條 | |
內置防護罩，隔絕溫差 / 灰塵 / 環境光干擾 | 軟件：快速峰值擬合 |
成本：經濟實用，支持定制 |
技術規格
類別 | 具體參數 |
激發波長 | 266–980 nm |
樣品XY掃描臺 | 行程范圍：5mm或10mm 重復精度：20nm |
物鏡Z掃描臺 | 行程范圍：400μm 重復精度：5nm |
采集時間 （積分時間10ms時） | 100μm×100μm, 0.5μm步長：6min 5mm×5mm，50μm步長：2min 5mm×5mm，5μm步長：3h |
樣品觀察 | LED、單色相機 |
電源 | 120V、60Hz |
數據接口 | USB 3.0 |
尺寸重量 | 43cm×38cm×58cm，14Kg |
| 軟件分析系統
GPU分析加速 | 采用GPU加速峰擬合技術， |
可在一小時內完成數百萬條光譜的擬合運算， | |
支持對多重特征峰進行擬合， | |
用戶可選擇使用標準函數或自定義函數。 | |
數據分析功能 | 快速提取每條光譜的峰值能量與強度， |
生成高分辨率、高對比度物理圖像， | |
偽彩色圖像直觀展示特征峰參數 （如能量單位eV） |
典型應用與科研案例
? 綠色發光二極管 (LED) 缺陷識別
下圖為綠色發光二極管 (LED) 的光致發光 (PL) 圖譜，分別展示了該綠色LED缺陷處發光峰的強度與峰值能量。
該實驗是通過將環氧樹脂覆蓋在LED芯片上形成的一個透明的、呈半球形的凸點進而測量完成的。
? 半導體合金成分與相分布
通過峰值分析，可用于分析材料的物理性質，如化學成分。
下圖展示了碲鋅鎘（CdZnTe）中鋅 (Zn) 含量的空間分布變化。
? 低溫發致發光測量
該低溫測量組件包括—杜瓦瓶、真空泵、溫度控制器等——開箱即可采集數據。
? 一體實現光致發光與拉曼測量
對紫外線發色和區域進行了峰值拉曼光譜分析，發現了硅-碳氫 (Si-CH) 鍵結構的污染物。
From“Photoluminescence and Raman mapping of β- Ga2O3," AIP Advances (2021)"
光致發光 (PL) 圖譜揭示了氧化鎵（Ga?O?） 材料中的缺陷分布。
From“Localized UV emitters on the surface of Ga2O3," Scientific Reports (2020)
（a）為TiO2的拉曼圖譜，圖中標注了銳鈦礦、金紅石和無定形相的區域。
（b）為選定區域的拉曼光譜。From “Localized phase transition of TiO2 thin films induced by sub-bandgap laser irradiation," J. Vac. Sci. Tech. A (2021).
波長組件模塊
Near IR | |
激光器 | 975 nm 激光器，30-100 mW |
光譜儀 | NIRQuest+, 900-1700 nm |
Near IR,Raman | |
激光器 | 785 nm 激光器，250 mW |
光譜儀 | QE Pro, 100-2800 cm-1 |
Red | |
激光器 | 635 nm 激光器，1-2 mW |
光譜儀 | Maya Pro，635-1060 nm |
Green | |
激光器 | 532 nm 激光器，4-5 mW |
光譜儀 | Maya Pro，532-960nm |
Green,Raman | |
激光器 | 532 nm 激光器，30-140 mW |
光譜儀 | QE Pro, 90-4000 cm-1 |
Violet | |
激光器 | 405 nm 激光器，1-2 mW |
光譜儀 | Maya Pro，405-840 nm |
Near UV | |
激光器 | 349 nm 激光器，0-20 mW |
光譜儀 | Maya Pro，349-780 nm |
Deep UV | |
激光器 | 266 nm 激光器，5 mW |
光譜儀 | Maya Pro，266-700 nm |
即用型模塊，安裝調試簡單，支持定制化組件
| 系統選型
? Standard Microscope 標準顯微系統
u 核心定位：基礎入門配置
u 主要特點：不含光譜儀
u 適用場景：基本顯微觀察需求
? Mini Pro Microscope 顯微光譜系統
u 核心定位：主力科研型號
u 主要特點：集成光譜分析功能，支持PL、拉曼、光電流等多種測量模式
u 適用場景：全面的材料光譜分析研究
? Premium Microscope 晶圓級顯微光譜系統
u 核心定位：專業配置
u 主要特點：針對晶圓級樣品優化，具備更大掃描范圍
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