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| 品牌 | 泊勛 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 光柵數量 | 三光柵 | 產地類別 | 國產 |
| 應用系統 | 熒光光譜 | 應用領域 | 化工,生物產業,電子/電池,航空航天,制藥/生物制藥 |

? 產品概述:
w 光學設計:采用像差校正光路設計,提升成像質量與光譜分辨率。
w 驅動控制:閉環電機驅動,無回程誤差,實現高精度波長定位。
w 精密狹縫:保證入射光斑穩定,提高光譜分辨能力與測試一致性。
w 機械結構:緊湊式高剛性結構設計,占用空間小,光路穩定性優異。
w 光柵系統:支持三光柵 Turret 塔臺切換,可靈活覆蓋不同波段與分辨率需求。
w 掃描方式:支持正負波長雙向高速掃描,減少波長切換時間,提高測試效率。
w 外部擴展:支持光纖接口、電動濾光片轉輪、電動快門等多種擴展配件。
w 輸出接口:提供多種可定制出光口,便于對接外部探測與成像設備。
w 鍍膜工藝:采用高性能光學鍍膜技術,提高光通量并有效抑制雜散光。
w 軟件與開發:配套友好操作軟件,支持 PL、Trans/Abs、Raman、LIBS 等測試模式,并提供完整 SDK 便于二次開發與系統集成。
w 應用場景:廣泛應用于拉曼光譜、熒光光譜、吸收/透射光譜、顯微光譜、光致發光(PL)、等離子體診斷及 LIBS 等領域。
? 技術規格(@1200g/mm光柵):
型號 | Major-300i |
焦距(mm) | 300mm |
相對孔徑 | f/3.9 |
光譜分辨率(nm)@PMT | 0.10 nm(狹縫寬20 μm) |
光譜分辨率(nm)@CCD | 0.10 nm |
倒線色散(nm/mm) | 2.37 nm/mm |
在28 mm寬CCD上的波長覆蓋范圍 (CCD單次拍譜范圍) | 66.3 nm |
焦平面尺寸 | 36 mm×51 mm |
掃描范圍 | 0-1500 nm |
掃描步距 | 0.008 nm/step |
波長準確度 | 0.2 nm |
波長重復性 | ±0.02 nm |
轉塔 | Turret式光柵塔 |
光柵切換重復性 | 0.02 nm |
光柵尺寸 | 68 mm×68 mm |
允許配置的轉塔數量 | 最多3個光柵 |
計算機接口 | USB2.0 |
? 光柵配置:
光柵配置 | Grating 1 | Blaze wavelength | Grating 2 | Blaze wavelength | Grating 3 | Blaze wavelength |
紫外配置 1 | 600 g/mm | 300 nm | 1200 g/mm | 300 nm | 2400 g/mm | 250 nm |
紫外配置 2 | 1200 g/mm | 300 nm | 1800 g/mm | 250 nm | 2400 g/mm | 250 nm |
紫外-可見- 近紅外 | 600 g/mm | 300 nm | 600 g/mm | 500 nm | 600 g/mm | 750 nm |
可見配置 | 300 g/mm | 500 nm | 600 g/mm | 500 nm | 1200 g/mm | 500 nm |
紅外配置 1 | 300 g/mm | 1200 nm | 600 g/mm | 1000 nm | 1200 g/mm | 1000 nm |
紅外配置 2 | 150 g/mm | 1250 nm | 300 g/mm | 1200 nm | 600 g/mm | 1600 nm |